即靠选择性的溶解材料外表微小凸出部分，全自动抛光机饿电解抛光基本原理与化学抛光相同。使表从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，全自动抛光机的化学抛光是让材料在化学介质中外表微观凸出的局部较凹局部优先溶解。可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到外表粗糙度一般为数 10μ m

　　一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，全自动抛光机机械抛光是靠切削、材料外表塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法。以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，外表质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工外表上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μ m外表粗糙度，各种抛光方法中最高的光学镜片模具常采用这种方法。