超精密抛光技术在现代电子工业中所要完成的使命，不仅仅是平坦化不同的材料，而且要平坦化多层材料，使得几毫米见方的硅片通过这种‘全局平坦化’形成上万至百万晶体管组成的超大规模集成电路。例如人类发明的计算机从几十吨变身为现在的几百克，没有超精密抛光不行，它是技术灵魂。

　　超精密抛光工艺应用：

　　光电子信息产业水平，对作为光电子基片材料的蓝宝石、单晶硅等材料的平行度要求越来越精密，已经达到了纳米级。这就意味着，抛光工艺也已随之进入纳米级的超精密程度。

　　超精密抛光工艺在现代制造业中有多重要，其应用的领域能够直接说明问题：集成电路制造、医疗器械、汽车配件、数码配件、精密模具、航空航天。

　　中国的超精密抛光技术水平：

　　犹豫美国、日本技术封锁，在超精密抛光领域，我国几乎目前只能进行自研。

　　作为一套技术要求极高的合成工艺，超精密化学机械抛光工艺精必须由设备和材料(抛光液)组成，二者缺一不可。我们国家研发的“二氧化铈微球粒度标准物质及其制备技术”已经具有成效，相关纳米级粒度标准物质获得国家计量器具许可和国家一级标准物质证书。二氧化铈新材料的超精密抛光生产试验效果一举赶超了国外传统材料，填补了该领域空白。

　　但是这并不意味着我国已经攀登到了这一领域的顶峰，对于整体工艺来说，只有抛光液而没有超精密抛光机，我们最多还只是卖材料的。

　　目前，美国、日本抛光机磨盘的材料构成和制作工艺一直是个谜。换言之，购买和使用他们的产品，并不代表可以仿制甚至复制他们的产品，这是两回事。