试样磨面与抛光盘应绝对平行并平均地轻压在抛光盘上，抛光机抛光时熟悉设备原理很重要。留意防止试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。为了达到粗抛的目的要求转盘转速较低，最好不要超越600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，由于还要去掉变形层。个矛盾的最好的方法就是把抛光分为两个阶段进行。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向往返移动，以防止抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物坚持一定湿度。粗抛目的去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是主要的考虑，不外也应当尽可能小;其次是精抛，其目的去除粗抛产生的表层损伤，自动抛光机使抛光损伤减到最小。