使用镜头研磨抛光机对光学模具抛光，能解决手工抛光平面度不一致和不平整的问题，圆形、弧形表面的平整度能控制在0.0002mm以内，如此高的精密度，是手工抛光无论如何也无法达到的。

　　光学镜片超精密研磨抛光加工方法：

　　光学镜片主流的抛光方式有三种，机械抛光、化学抛光和化学机械抛光。三种者都需要研磨抛光液(粉)，又可分为抛光粉和研磨液(行业中也把抛光液称为研磨液或把研磨液称为抛光液)。一般研磨液(粉)用于粗磨，抛光液(粉)用于精密磨削。抛光粉通常用于研磨液的下道工序。

离子束研磨 图源：徕卡官网.jpg

　　除了通用型的化学/机械抛光方法以外，浴法抛光、离子束抛光、等离子体辅助抛光也被适用于不同精密构造的光学系统。

　　1、浴法抛光：浴法抛光是指工件和抛光盘都浸在抛光液中，所用装置示意图抛光液的深度以设备静止时淹没工件 10～15mm 为宜，搅拌器是使抛光液处于悬浮状态，不产生沉淀，抛光玻璃时一般使用氧化铁(红粉)、氧化铝等抛光材料。

　　2、离子束抛光：离子束抛光是玻璃工件在传统抛光后，用来进一步提高抛光精度的补充抛光方法。先在真空(1.33Pa)条件下，将惰性气体(氩、氪、氙等)原子使用高频或放电等方法使之成为离子，再用20～25kV的电压加速，然后碰撞到位于1.33×10 Pa真空度的真 空室内的被加工工件表面上，将能量直接传给工件材料原子，使其逸出表面而被去除。这种方法可以使工件去除厚度达10～20μm，是典型的用物理碰撞方法进行的抛光技术，一般情况下表面粗糙度可达0.01μm，精度高的达0.6nm。

　　3、等离子体辅助抛光：等离子体辅助抛光是利用化学反应来去除表面材料而实现抛光的方法，采用特定气体，制成活性等离子体，当活性等离子体与工件表面作用，发生化学反应，生成易挥发的混合气体，从而将工件表面材料去除。